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Micro e nanotecnologia
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Indice del libro
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Micro e nanotecnologia
Copertina
Tutti i moduli
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Sviluppo
Microtecnologia
Introduzione alla microtecnologia
Il transistor e i dispositivi integrati
La legge di Moore
Microtecnologia: concetti di base
L'ambiente: la camera pulita
Crescita dei cristalli
Il vuoto
Le leggi del vuoto
Pompe da vuoto
Strumenti di misura per il vuoto
Il plasma
Proprietà generali
Fisica del plasma
Scarica nei gas
Scarica a rf
Tecniche litografiche
Litografia ottica
Litografia elettronica
Litografia a raggi X
Litografia a fascio ionico
Film sottili
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Sputtering
Evaporazione
Deposizione con cannone elettronico
Molecular Beam Epitaxy (MBE)
Deposizione di film dielettrici
Film metallici
Processi successivi
Ossidazione
Impiantazione ionica
Diffusione
Planarizzazione
Etching
Wet etch
Attacco a secco
Reactive Ion Etching (RIE)
Ion milling
Esempi
Dispositivi MOS e CMOS
Giunzioni Josephson
MEMS
Sensori di immagine
Memorie magnetiche
Tecniche diagnostiche
Microscopia Ottica
Diffrazione a raggi X
Interazione con fasci di elettroni
SEM
TEM
Scanning probe
STM
Statistica per tecnologia
Nanotecnologia
Introduzione alla nanotecnologia
Cenni storici
I due approcci: top-down, bottom-up
Approccio top-down
Scansione a sonda (scanning probe)
Stampa (nanoprint)
Approccio bottom-up
Self-organizzazione
Film di Langmuir-Blodgett
Self-assembled monolayers (SAM)
Strutture molecolari con carbonio
Fullerene C60
Nanotubi
Nanofili (nanowire)
AFM
SNOM
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