Contributi di Marco de meis

16 giu 2009

• 19:0619:06, 16 giu 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
• 18:5918:59, 16 giu 2009 diff cron +1 229 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel

15 giu 2009

• 18:3618:36, 15 giu 2009 diff cron −2 258 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation {{Avanzamento|25%|4 giugno 2009}}' attuale
• 15:3815:38, 15 giu 2009 diff cron −2 257 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation {{Avanzamento|25%|4 giugno 2009}}'

12 giu 2009

• 18:3818:38, 12 giu 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
• 18:2318:23, 12 giu 2009 diff cron +1 082 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
• 12:3812:38, 12 giu 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel

11 giu 2009

• 17:4217:42, 11 giu 2009 diff cron +21 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica

9 giu 2009

• 17:3817:38, 9 giu 2009 diff cron −1 646 Micro e nanotecnologia/Nanotecnologia/Introduzione alla nanotecnologia Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Introduzione alla nanotecnologia {{Avanzamento|50%|30 maggio 2009}}' attuale
• 14:1214:12, 9 giu 2009 diff cron +1 438 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nuova pagina: '''INTRODUZIONE''' Un sensore di immagine, è un dispositivo elettronico, capace di convertire in segnale elettronico (in genere digitale), l' immagine che viene proiettata su di esso…

8 giu 2009

• 13:2813:28, 8 giu 2009 diff cron +431 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nessun oggetto della modifica
• 13:0313:03, 8 giu 2009 diff cron +198 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a fascio ionico Nessun oggetto della modifica attuale

5 giu 2009

• 01:0301:03, 5 giu 2009 diff cron +126 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation →Schema

4 giu 2009

• 10:3710:37, 4 giu 2009 diff cron +2 181 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Nuova pagina: ===LITOGRAFIA ELETTRONICA=== '''Intoduzione''' Nella litografia a fascio di elettroni, la diffrazione non è una limitazione sulla risoluzione in quanto la lunghezza d’ onda è inf…

30 mag 2009

• 15:2815:28, 30 mag 2009 diff cron +631 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Le carte di controllo
• 14:5914:59, 30 mag 2009 diff cron +1 652 N Micro e nanotecnologia/Nanotecnologia/Introduzione alla nanotecnologia Nuova pagina: ===Definizione di circuito integrato === I circuiti integrati sono classificati dal numero di transistor e componenti elettronici che essi contengono. Per questo motivo la scala è co…

28 mag 2009

• 18:4118:41, 28 mag 2009 diff cron +17 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Retta di regressione

26 mag 2009

• 21:2921:29, 26 mag 2009 diff cron +72 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Modello di regressione
• 18:5318:53, 26 mag 2009 diff cron +776 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Modello di regressione

25 mag 2009

• 11:5311:53, 25 mag 2009 diff cron +975 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Variabile casuale normale

23 mag 2009

• 13:2613:26, 23 mag 2009 diff cron +1 153 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia Nuova pagina: '''Variabile Casuale NORMALE''' Prima di parlare di statistica per la tecnologia, introduciamo una funzione molto importante che è appunto la variabile casuale normale. '''DEF:''' …

15 mag 2009

• 22:2422:24, 15 mag 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nessun oggetto della modifica
• 22:1522:15, 15 mag 2009 diff cron +1 984 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nuova pagina: Per determinare la struttura di sistemi molecolari si utilizza quella che viene chiamata '''diffrazione da raggi X'''. Tramite la diffrazione da raggi X si vanno a studiare gli effet…

30 mar 2009

• 12:3612:36, 30 mar 2009 diff cron +25 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Interazione degli atomi di drogante con il substrato e necessità dell'annealig
• 12:3012:30, 30 mar 2009 diff cron +1 000 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →RTA (Rapid Termal Annealing)
• 12:0912:09, 30 mar 2009 diff cron +13 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →RTA (Rapid Termal Annealing)
• 11:4911:49, 30 mar 2009 diff cron +513 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Interazione degli atomi di drogante con il substrato e necessità dell'annealig

28 mar 2009

• 15:5115:51, 28 mar 2009 diff cron +50 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione →CMP (Chemical Mechanical Polishing)
• 15:2815:28, 28 mar 2009 diff cron +1 614 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione Nuova pagina: ==CMP (Chemical Mechanical Polishing)== CMP è una tecnica di processo che consente di rendere planare la superficie del wafer, tramite l’asportazione di uno strato di materiale dal…

25 mar 2009

• 15:0615:06, 25 mar 2009 diff cron +21 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
• 14:5714:57, 25 mar 2009 diff cron +201 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
• 14:4514:45, 25 mar 2009 diff cron +283 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
• 14:1914:19, 25 mar 2009 diff cron +2 135 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Etching del polisilicio
• 13:4313:43, 25 mar 2009 diff cron +140 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Etching del silicio
• 13:2813:28, 25 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
• 13:2613:26, 25 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
• 13:2613:26, 25 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
• 13:1913:19, 25 mar 2009 diff cron +1 609 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
• 12:4912:49, 25 mar 2009 diff cron +151 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica

23 mar 2009

• 15:1515:15, 23 mar 2009 diff cron +127 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica
• 14:2414:24, 23 mar 2009 diff cron +85 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica
• 09:0709:07, 23 mar 2009 diff cron +173 Discussioni utente:Ramac →Micro e nanotecnologia

21 mar 2009

• 15:4915:49, 21 mar 2009 diff cron +55 Discussioni utente:Ramac →Senti
• 15:4715:47, 21 mar 2009 diff cron +222 Discussioni utente:Ramac Nessun oggetto della modifica
• 15:2215:22, 21 mar 2009 diff cron +111 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica

19 mar 2009

• 16:1416:14, 19 mar 2009 diff cron +146 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Lastre
• 16:0916:09, 19 mar 2009 diff cron −14 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Esposizione e sviluppo
• 16:0516:05, 19 mar 2009 diff cron +1 006 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
• 15:4215:42, 19 mar 2009 diff cron +927 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Passi del processo di Fotolitografia
• 15:1315:13, 19 mar 2009 diff cron +73 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Procedura di base