Contributi di Marco de meis
16 giu 2009
- 20:0620:06, 16 giu 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
- 19:5919:59, 16 giu 2009 diff cron +1 229 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
15 giu 2009
- 19:3619:36, 15 giu 2009 diff cron −2 258 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation {{Avanzamento|25%|4 giugno 2009}}' attuale
- 16:3816:38, 15 giu 2009 diff cron −2 257 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation {{Avanzamento|25%|4 giugno 2009}}'
12 giu 2009
- 19:3819:38, 12 giu 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
- 19:2319:23, 12 giu 2009 diff cron +1 082 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
- 13:3813:38, 12 giu 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
11 giu 2009
- 18:4218:42, 11 giu 2009 diff cron +21 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica
9 giu 2009
- 18:3818:38, 9 giu 2009 diff cron −1 646 Micro e nanotecnologia/Nanotecnologia/Introduzione alla nanotecnologia Pagina sostituita con '{{Micro e nanotecnologia}} Introduzione alla nanotecnologia {{Avanzamento|50%|30 maggio 2009}}' attuale
- 15:1215:12, 9 giu 2009 diff cron +1 438 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nuova pagina: '''INTRODUZIONE''' Un sensore di immagine, è un dispositivo elettronico, capace di convertire in segnale elettronico (in genere digitale), l' immagine che viene proiettata su di esso…
8 giu 2009
- 14:2814:28, 8 giu 2009 diff cron +431 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nessun oggetto della modifica
- 14:0314:03, 8 giu 2009 diff cron +198 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a fascio ionico Nessun oggetto della modifica attuale
5 giu 2009
- 02:0302:03, 5 giu 2009 diff cron +126 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation →Schema
4 giu 2009
- 11:3711:37, 4 giu 2009 diff cron +2 181 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation Nuova pagina: ===LITOGRAFIA ELETTRONICA=== '''Intoduzione''' Nella litografia a fascio di elettroni, la diffrazione non è una limitazione sulla risoluzione in quanto la lunghezza d’ onda è inf…
30 mag 2009
- 16:2816:28, 30 mag 2009 diff cron +631 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Le carte di controllo
- 15:5915:59, 30 mag 2009 diff cron +1 652 N Micro e nanotecnologia/Nanotecnologia/Introduzione alla nanotecnologia Nuova pagina: ===Definizione di circuito integrato === I circuiti integrati sono classificati dal numero di transistor e componenti elettronici che essi contengono. Per questo motivo la scala è co…
28 mag 2009
- 19:4119:41, 28 mag 2009 diff cron +17 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Retta di regressione
26 mag 2009
- 22:2922:29, 26 mag 2009 diff cron +72 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Modello di regressione
- 19:5319:53, 26 mag 2009 diff cron +776 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Modello di regressione
25 mag 2009
- 12:5312:53, 25 mag 2009 diff cron +975 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia →Variabile casuale normale
23 mag 2009
- 14:2614:26, 23 mag 2009 diff cron +1 153 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia Nuova pagina: '''Variabile Casuale NORMALE''' Prima di parlare di statistica per la tecnologia, introduciamo una funzione molto importante che è appunto la variabile casuale normale. '''DEF:''' …
15 mag 2009
- 23:2423:24, 15 mag 2009 diff cron +7 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nessun oggetto della modifica
- 23:1523:15, 15 mag 2009 diff cron +1 984 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nuova pagina: Per determinare la struttura di sistemi molecolari si utilizza quella che viene chiamata '''diffrazione da raggi X'''. Tramite la diffrazione da raggi X si vanno a studiare gli effet…
30 mar 2009
- 13:3613:36, 30 mar 2009 diff cron +25 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Interazione degli atomi di drogante con il substrato e necessità dell'annealig
- 13:3013:30, 30 mar 2009 diff cron +1 000 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →RTA (Rapid Termal Annealing)
- 13:0913:09, 30 mar 2009 diff cron +13 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →RTA (Rapid Termal Annealing)
- 12:4912:49, 30 mar 2009 diff cron +513 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Interazione degli atomi di drogante con il substrato e necessità dell'annealig
28 mar 2009
- 16:5116:51, 28 mar 2009 diff cron +50 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione →CMP (Chemical Mechanical Polishing)
- 16:2816:28, 28 mar 2009 diff cron +1 614 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione Nuova pagina: ==CMP (Chemical Mechanical Polishing)== CMP è una tecnica di processo che consente di rendere planare la superficie del wafer, tramite l’asportazione di uno strato di materiale dal…
25 mar 2009
- 16:0616:06, 25 mar 2009 diff cron +21 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
- 15:5715:57, 25 mar 2009 diff cron +201 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
- 15:4515:45, 25 mar 2009 diff cron +283 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
- 15:1915:19, 25 mar 2009 diff cron +2 135 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Etching del polisilicio
- 14:4314:43, 25 mar 2009 diff cron +140 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Etching del silicio
- 14:2814:28, 25 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
- 14:2614:26, 25 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
- 14:2614:26, 25 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Vasche per il processo in Wet
- 14:1914:19, 25 mar 2009 diff cron +1 609 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching →Wet Etch
- 13:4913:49, 25 mar 2009 diff cron +151 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica
23 mar 2009
- 16:1516:15, 23 mar 2009 diff cron +127 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica
- 15:2415:24, 23 mar 2009 diff cron +85 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica
- 10:0710:07, 23 mar 2009 diff cron +173 Discussioni utente:Ramac →Micro e nanotecnologia
21 mar 2009
- 16:4916:49, 21 mar 2009 diff cron +55 Discussioni utente:Ramac →Senti
- 16:4716:47, 21 mar 2009 diff cron +222 Discussioni utente:Ramac Nessun oggetto della modifica
- 16:2216:22, 21 mar 2009 diff cron +111 Template:Micro e nanotecnologia Nessun oggetto della modifica
19 mar 2009
- 17:1417:14, 19 mar 2009 diff cron +146 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Lastre
- 17:0917:09, 19 mar 2009 diff cron −14 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Esposizione e sviluppo
- 17:0517:05, 19 mar 2009 diff cron +1 006 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
- 16:4216:42, 19 mar 2009 diff cron +927 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Passi del processo di Fotolitografia
- 16:1316:13, 19 mar 2009 diff cron +73 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Procedura di base
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