Contributi di Angelochimisso

24 giu 2009

• 17:4317:43, 24 giu 2009 diff cron +1 767 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Figure di merito dei sensori di immagine

23 giu 2009

• 18:2118:21, 23 giu 2009 diff cron +1 026 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Come si realizza un pixel
• 17:0117:01, 23 giu 2009 diff cron +307 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine →Campionamento spaziale

11 giu 2009

• 18:2518:25, 11 giu 2009 diff cron +54 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica
• 18:2018:20, 11 giu 2009 diff cron +233 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Sensori di immagine Nessun oggetto della modifica

4 giu 2009

• 12:1612:16, 4 giu 2009 diff cron +545 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica

3 giu 2009

• 16:2816:28, 3 giu 2009 diff cron +1 810 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nessun oggetto della modifica

30 mag 2009

• 10:0810:08, 30 mag 2009 diff cron +1 123 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X Nuova pagina: La litografia a raggi X è una tecnica litografiaca di prossima generazione, che è stata sviluppata per l'industria dei semiconduttori; è una tecnica ancora in via di perfezionamento…
• 09:4709:47, 30 mag 2009 diff cron +291 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche diagnostiche/Diffrazione a raggi X Nessun oggetto della modifica

28 mag 2009

• 17:3617:36, 28 mag 2009 diff cron +2 142 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Statistica per tecnologia Nessun oggetto della modifica

28 apr 2009

• 19:2819:28, 28 apr 2009 diff cron +2 583 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/MEMS Nessun oggetto della modifica
• 17:5317:53, 28 apr 2009 diff cron +1 023 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/MEMS Nuova pagina: '''MEMS''' I MEMS (Micro Elettro Mechanical System), sono dispositivi microscopici progettati, assemblati ed utilizzati per interagire e produrre modificazioni in un particolare ambie…
• 14:2514:25, 28 apr 2009 diff cron +12 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione →CMP (Chemical Mechanical Polishing)

24 apr 2009

• 17:0517:05, 24 apr 2009 diff cron +1 029 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Reactive Ion Etching (RIE) Nessun oggetto della modifica

21 apr 2009

• 13:0313:03, 21 apr 2009 diff cron +20 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica Nessun oggetto della modifica

27 mar 2009

• 17:0517:05, 27 mar 2009 diff cron +17 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Pompe da vuoto →Pompe da vuoto
• 15:2515:25, 27 mar 2009 diff cron −169 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) Nessun oggetto della modifica
• 00:1200:12, 27 mar 2009 diff cron +3 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch Nessun oggetto della modifica
• 00:1100:11, 27 mar 2009 diff cron +34 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto Nessun oggetto della modifica
• 00:0500:05, 27 mar 2009 diff cron +1 036 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch Nessun oggetto della modifica

26 mar 2009

• 23:4623:46, 26 mar 2009 diff cron −1 175 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica
• 23:3523:35, 26 mar 2009 diff cron −17 m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nessun oggetto della modifica
• 20:1220:12, 26 mar 2009 diff cron +67 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nessun oggetto della modifica
• 19:2019:20, 26 mar 2009 diff cron −5 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
• 19:1919:19, 26 mar 2009 diff cron +19 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
• 19:1819:18, 26 mar 2009 diff cron +897 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
• 18:1518:15, 26 mar 2009 diff cron +28 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
• 17:1717:17, 26 mar 2009 diff cron +1 138 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica →Impiantatore ionico
• 16:4316:43, 26 mar 2009 diff cron +1 297 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica Nessun oggetto della modifica
• 15:5915:59, 26 mar 2009 diff cron +1 331 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Diffusione Nuova pagina: {{Micro e nanotecnologia}} La diffusione termica rappresenta da sempre la più comune tecnica di drogaggio selettivo del silicio, prima dell’avvento definitivo dell’impiantazione …
• 15:3215:32, 26 mar 2009 diff cron +1 584 N Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica Nuova pagina: {{Micro e nanotecnologia}} L’impiantazione ionica consiste nell’introduzione di atomi carichi ad elevata energia in un substrato, solitamente un wafer silicio, al fine di variarne…

25 mar 2009

• 20:5520:55, 25 mar 2009 diff cron +2 474 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching Nessun oggetto della modifica

20 mar 2009

• 16:2516:25, 20 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica

19 mar 2009

• 18:3018:30, 19 mar 2009 diff cron +361 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche Nessun oggetto della modifica
• 17:5217:52, 19 mar 2009 diff cron +6 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) Nessun oggetto della modifica
• 17:5117:51, 19 mar 2009 diff cron +741 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) Nessun oggetto della modifica
• 16:4716:47, 19 mar 2009 diff cron +386 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
• 16:3916:39, 19 mar 2009 diff cron −113 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Risoluzione
• 15:5615:56, 19 mar 2009 diff cron +2 276 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Esposizione e sviluppo
• 15:1715:17, 19 mar 2009 diff cron +15 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Applicazione del fotoresist
• 15:1415:14, 19 mar 2009 diff cron +2 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica →Preparazione

18 mar 2009

• 18:3518:35, 18 mar 2009 diff cron +635 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici →Fornaci per deposizione di film a bassa pressione
• 18:1818:18, 18 mar 2009 diff cron +195 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) →Deposizione di CVD Tungsteno (W)
• 17:3917:39, 18 mar 2009 diff cron +2 032 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) Nessun oggetto della modifica

12 mar 2009

• 18:4518:45, 12 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
• 18:4218:42, 12 mar 2009 diff cron 0 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
• 18:4118:41, 12 mar 2009 diff cron +9 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
• 18:3618:36, 12 mar 2009 diff cron +1 144 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Processo di fotoionizzazione
• 18:2218:22, 12 mar 2009 diff cron +163 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Interazioni possibili tra ione e atomo
• 17:5017:50, 12 mar 2009 diff cron +612 Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma →Plasma come conduttore elettrico