Contributi di Anddab

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Utente con 32 modifiche. Utenza creata il 4 apr 2013.

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20:0620:06, 23 dic 2013 diff cron +3‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Degassamento
19:2819:28, 23 dic 2013 diff cron +10‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Degassamento
17:4217:42, 23 dic 2013 diff cron +5‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Impianto da vuoto
16:4916:49, 23 dic 2013 diff cron −2‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Impianto da vuoto
15:2215:22, 23 dic 2013 diff cron 0‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Il cammino libero medio
13:3813:38, 23 dic 2013 diff cron +2‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto/Le leggi del vuoto ‎ →‎Composizione del vuoto

12:1212:12, 20 dic 2013 diff cron 0‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione con cannone elettronico ‎Nessun oggetto della modifica

16:4116:41, 19 dic 2013 diff cron +2‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione con cannone elettronico ‎Nessun oggetto della modifica
16:4116:41, 19 dic 2013 diff cron −2‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione con cannone elettronico ‎Nessun oggetto della modifica

18:3118:31, 18 dic 2013 diff cron +1‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Evaporazione ‎Nessun oggetto della modifica
17:4717:47, 18 dic 2013 diff cron −2‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Evaporazione ‎Nessun oggetto della modifica
16:5416:54, 18 dic 2013 diff cron +40‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Evaporazione ‎Nessun oggetto della modifica
16:5216:52, 18 dic 2013 diff cron −28‎ Template:Micro e nanotecnologia ‎Nessun oggetto della modifica
16:5216:52, 18 dic 2013 diff cron −28‎ Template:Micro e nanotecnologia ‎Nessun oggetto della modifica
16:5116:51, 18 dic 2013 diff cron +56‎ Template:Micro e nanotecnologia ‎Nessun oggetto della modifica
16:2916:29, 18 dic 2013 diff cron +3‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Sputtering ‎ →‎Ion-beam sputtering

12:2212:22, 16 dic 2013 diff cron −1‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica a rf ‎ →‎Scarica ac
12:1212:12, 16 dic 2013 diff cron −8 861‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica a rf ‎Nessun oggetto della modifica
11:0211:02, 16 dic 2013 diff cron −3‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica nei gas ‎ →‎Campi magnetici

12:1712:17, 14 dic 2013 diff cron +100‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica nei gas ‎ →‎Scarica a bagliore
11:0911:09, 14 dic 2013 diff cron −2‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica nei gas ‎ →‎Scarica oscura

18:4318:43, 11 dic 2013 diff cron −1‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎ →‎Processi inversi
18:3118:31, 11 dic 2013 diff cron 0‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎ →‎Processi inversi
18:1618:16, 11 dic 2013 diff cron −4‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎ →‎Trasferimento di carica
18:1518:15, 11 dic 2013 diff cron +19‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎ →‎Trasferimento di carica
17:5417:54, 11 dic 2013 diff cron +1‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎Nessun oggetto della modifica Etichetta: Modifica da mobile
17:2217:22, 11 dic 2013 diff cron +48‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali ‎ →‎Eccitazione: correzioni logiche

13:2813:28, 28 nov 2013 diff cron +26‎ m Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Planarizzazione ‎ →‎CMP (Chemical Mechanical Polishing): miglioramento nella comprensione della diff. tra le dimensioni delle particelle del slurry rispetto al processo di abrasione

12:2712:27, 27 nov 2013 diff cron +133‎ Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Dry Etching ‎ →‎Tecnologie a differenti densità di plasma: aggiunta del significato di "aspect ratio"

18:2518:25, 5 mag 2013 diff cron 0‎ m Fisica classica/Campi magnetici ‎ →‎Campi magnetici in generale

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