Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica: differenze tra le versioni

Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
ortografia
Gian BOT (discussione | contributi)
m Bot: Correggo errori comuni (tramite La lista degli errori comuni V 1.0)
 
Riga 19:
[[File:Step Fotolitografia.jpg|thumb|510px|left|Passi del processo di fotolitografia]]
 
Se il controllo da esito positivo la fetta (''wafer'') può continuare i processi successivi che potrebbe essere quello di impiantazione ionica, attacco, diffusione eccetera; a volte se il processo litografico viene giudicato non adeguato , dopo l'eliminazione del resist, il processo può essere ricominciato dall'inizio.
 
=== Pulizia ===