Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche: differenze tra le versioni

 

La fotolitografia usata in microelettronica è in realtà una derivazione della fotografia, che viene inventata da Niépce nel 1822, sulla base delle conoscenze acquisite con la litografia. Tale tecnica permette di produrre immagini senza l'intervento diretto dell'uomo. Sperimentando diverse tecniche Niépce riesce ad ottenere, la sua prima immagine disegnata dalla luce, la tecnica in breve consisteva nel distendere uno strato di [[w:bitume di Giudea|bitume]] ridotto in polvere e disciolto in essenza di [[w:lavanda|lavanda]], in seguito la soluzione veniva pennellata su una lamina di rame ricoperta d'argento e quindi fatta asciugare; lo strato di vernice fotosensibile viene esposto per qualche ora sul fondo di una [[w:camera oscura|camera oscura]] ed impressionata con l'immagine che si intendeva riprodurre; successivamente la lamina veniva immersa in un bagno di lavanda per dissolvere i frammenti che non avevano ricevuto la luce e così si otteneva l'immagine in negativo. L'unico imprevisto è che il risultato del suo lavoro non è stabile, cioè annerisce progressivamente al contatto con la luce. Nel 1827, durante un viaggio a Parigi, conosce [[w:Louis Daguerre|Daguerre]] e Lemaitre che in seguito diventeranno suoi collaboratori. Nel 1829 fonda con Daguerre un'associazione per il perfezionamento dei materiali fotosensibili.

Vi è da aggiungere che gli inglesi affermano che l'invenzione spetta a [[w:Thomas Wedgwood|Thomas Wedgwood]], che circa nel 1790 circa aveva prodotto delle immagini chimiche su carta.