Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili: differenze tra le versioni
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==Deposizione chimica==
In questo caso un fluido precursore subisce un cambiamento chimico quando viene in contatto con la superficie di un solido. Un esempio dalla vita di tutti i giorni è la formazione di [[w:fuliggine|fuliggine]] su un oggetto freddo posto dentro una fiamma.
La deposizione chimica viene classifica sulla base della fase del precursore, le più comuni sono:
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Un esempio dalla vita di tutti i giorni è la formazione di [[w:brina|brina]], in cui il vapore d'acqua sovrasaturo si deposita sulle superfici più fredde. I sistemi commerciali utilizzati per questo genere di tecniche richiedono un ambiente a bassa pressione per garantire una elevata purezza e controllo del film da evaporare, viene in genere chiamata (Physical vapor deposition, abbreviata con '''PVD''') (la traduzione italiana ''deposizione fisica da fase vapore'' è poco usata)
Il materiale che deve essere depositato è posto in una regione della camera da vuoto (sorgente) ed a causa dell'elevata energia acquistata le particelle fuoriescono dalla superficie della sorgente. Di fronte alla sorgente vi è il substrato che raffredda le particelle che la bombardano, permettendo la formazione di uno strato solido. Il sistema è mantenuto all'interno di una camera da vuoto per non contaminare il film da depositare e permettere alle particelle da depositare di viaggiare liberamente dalla sorgente al substrato.
Gli esempi più comuni sono:
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