Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: differenze tra le versioni
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Vi è da aggiungere che per la fabbricazione di maschere i resist usati sono negativi è hanno sensibilità così basse come 10<sup>-6</sup> C/cm<sup>2</sup>.
Attualmente tale tecnologia non pare sia utilizzabile per la produzione su larga scala di aree con elevata densità di area esposta. Il procedimento di scrittura essendo seriale rende la generazione delle strutture
Sono stati previsti sistemi innovativi a fasci multipli che permetterebbero di raggiungere velocità di scrittura molto più elevate.
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