Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X: differenze tra le versioni
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'''Descrizione del processo'''
La litografia a raggi X usa un metodo di incisione simile alla litografia a prossimità. Immaginando di avere dei raggi X di lunghezza d'onda di frazioni di nm e che la stampa avvenga attraverso una maschera (eguale al disegno da stampare 1X) molto vicina (
Fabbricare maschere per la litografia a raggi X è molto più complicato che fabbricare quelle per la litografia ottica. Inoltre i raggi X sono assorbiti dai gas e in genere nel cammino a pressione atmosferica dei raggi X usati, va usato Elio, che presenta il minimo assorbimento ai raggi X. Una finestra di Berillio (il metallo rigido con il più basso numero atomico) separa la regione di vuoto in cui sono prodotti i raggi X dal cammino in Elio.
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