Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia ottica: differenze tra le versioni

Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
Riga 87:
::<math>\,NA</math> è l'[[w:Apertura_numerica|apertura numerica]] della lente finale del sistema di proiezione sul wafer. L'apertura numerica è una grandezza adimensionale che indica il massimo angolo utile del sistema.
 
Secondo questa equazione, un particolare minimo può essere diminuito diminuendo la lunghezza d'onda ed aumentando l'apertura numerica: cioè facendo lenti più grandi e portandole il più vicino possibile al wafer. Purtroppo non si può avvicinare troppo al wafer a causa del problema della [[w:Prfondità_di_fuocoProfondità_di_fuoco|profondità di fuoco]] ('''DF'''). Infatti in un sistema di proiezione
 
:<math>D_F = k_2 \cdot\frac{\lambda}{{NA}^2}</math>