Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Ossidazione: differenze tra le versioni

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==Modello di Deal-Grove==
[[Image:Modello_Deal_Grove.jpg|left|thumb|350px|Modello di Grove]]
Il modello Deal-Grove è un semplice modello che caratterizza la cinetica dell'ossidazione termica.
Il modello Deal-Grove descrive la crescita di uno strato di ossido sulla superficie di un materiale. In particolare analizzeremo la crescita di <math>SiO_2\ </math> su uno strato di Silicio
Le reazioni chimiche si hanno all'interfaccia <math>Si - SiO_2</math>, quindi la specie ossidante (<math>O_2</math> per il dry e <math>H_2O</math> per la steam) deve diffondere nello strato di ossido già formato prima di poter raggiungere l'interfaccia.
Applicando una certa quantità di gas reagente, sullo strato di silicio crescerà un film d’ossido.