Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch: differenze tra le versioni

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Il nitruro di silicio può essere rimosso utilizzando una soluzione di acido fluoridrico secondo la reazione:
 
:<math>\mathrm{SiO_3N_4Si_3N_4} + \mathrm{18HF} \longrightarrow \mathrm{H_2SiF_6}+ \mathrm{2(NH_4)_2SiF_6}\;</math>
 
questo tipo di etch in realtà causa dei problemi infatti, quasi sempre, si ha una situazione del tipo: