Elettronica fisica/Mosfet: differenze tra le versioni

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regioni di source e drain ed il substrato devono essere contropolarizzate:
per un transistor nmos il substrato dovrà essere collegato ad un potenziale
pi`upiù negativo (o, quantomeno, non pi`upiù positivo) di quello di source e drain,
per un transistor pmos ad un potenziale pi`upiù positivo. La presenza delle due
giunzioni contropolarizzate contrapposte (rappresentate da diodi in fig. 5.2),
rende impossibile il passagggio di carica tra source e drain. Applicando una
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mosfet si modifica lo stato di carica del condensatore mos.
Nel caso di un transistor nmos, si hanno le situazioni schematizzate in
fig. 5.3. In 5.3a il gate si trova ad un potenziale pi`upiù negativo del substrato,
Figura 5.3: Formazione del canale di conduzione in un transistor nmos.
di tipo P. I portatori di carica positivi, maggioritari, vengono attratti ver-
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possono dare luogo ad alcuna conduzione, a causa della presenza delle due
giunzioni contropolarizzate tra source e drain e substrato. Portando il po-
tenziale del gate verso valori pi`upiù positivi, la carica del condensatore mos
diminuisce, riducendosi a zero e successivamente invertendosi di segno, di-
ventando quindi positiva sulla superficie del gate e negativa sulla superficie
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cariche negative nel reticolo cristallino. Non essendoci portatori di carica in
questa zona, non vi può essere conduzione tra source e drain.
Portando il potenziale del gate verso valori ancora pi`upiù positivi, si verifica
il fenomeno della inversione della polarità del semiconduttore in prossimità
del gate e della formazione di un canale di conduzione: all’aumentare del
potenziale del gate, diminuisce sempre di pi`upiù la concentrazione dei portatori
positivi maggioritari, mentre aumenta quella dei portatori negativi, richia-
mati dal campo elettrico, originariamente minoritari nel substrato. Per un
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le concentrazioni invertite e diventa di tipo N. La presenza di questa sottile
lamina di semiconduttore di tipo N sotto la superficie del gate da luogo ad
un’unica regione che interconnette source e drain, senza pi`upiù zone di svuo-
tamento e giunzioni contropolarizzate: si è formato il canale di conduzione
che rende possibile il passaggio di cariche tra source e drain (fig. 5.3c).
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5.4 Modulazione del canale
Applicando una tensione VDS tra drain e source il potenziale lungo il canale
non è pi`upiù costante, ma viene a dipendere dalla posizione x tra source (x = 0)
e drain (x = xD). L’equazione 5.2 dovrà essere modificata per tenere conto
Figura 5.6: Modulazione della consistenza del canale in funzione della
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come amplificatore, il valore di gos è molto piccolo, in prima approssimazio-
ne zero (e quindi mos = 1), se si trascura l’effetto della tensione di Early.
Di conseguenza i parametri g sono i pi`upiù convenienti e i pi`upiù comunemente
usati nel modello lineare del mosfet.
90 CAPITOLO 5. IL TRANSISTOR MOSFET
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per piccoli segnali ed alta frequenza alle centinaia o migliaia di pF per i
dispositivi di potenza. Il circuito lineare di fig. 5.15 dovrà essere modifica-
to per tenere conto di questi effetti, tanto pi`upiù importanti quanto pi`upiù alta
è la frequenza di lavoro. Le due capacità CGS e CGD in fig. 5.16 rap-
Figura 5.16: Circuito lineare equivalente per il transistor mosfet in alta