Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici: differenze tra le versioni

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:reagenti adsorbiti dalla superficie, elevata migrazione superficiale, spessore uniforme indipendente dalla topografia.
 
Si ha dunque un ricoprimento del gradino completamente conforme; lo spessore del film lungo le pareti e`è uguale a quello al fondo del gradino. Si ha un ricoprimento conforme del gradino quando i reagenti, o i composti intermedi della reazione, vengono assorbiti alla superficie e quindi migrano rapidamente lungo la superficie stessa prima di reagire.
 
;Ricopertura non conforme (da silano)
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==Polisilicio e drogaggio==
 
Per ridurne la resistività, il polisicio può essere drogato durante la deposizione. Nel forno quindi, oltre a mettere il Silano, si mettono atomi di drogante come Fosfina, Arsina, Diborano. Il polisilicio puo` essere utilizzato per contattare le zone n+ nei transistor ad esempio e quindi il contatto ideale sarebbe quello a piu`più bassa resistenza.