Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali: differenze tra le versioni
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Quanto detto implica che un qualsiasi oggetto perturba il plasma facendo sì che esso si porti ad un potenziale negativo (il fenomeno appena descritto, infatti, può avvenire anche con le pareti del recipiente in cui è contenuto il plasma stesso).
== Plasmi non termici==
Come già accennato sopra, per poter avere plasma a temperatura ambiente dobbiamo fornire energia dall'esterno. Abbiamo due scelte:
* Corrente continua
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Anche in corrente alternata per avere un plasma è necessario che le tensioni in gioco superino il campo di breakdown, per ottenere tensioni elevate con generatori adattati a <math>50 \Omega </math>
in genere si utilizzano delle reti di adattamento, cioè dei circuiti con elementi RLC variabili che permettano sia di trasferire la massima energia al sistema da vuoto, adattandone l'impedenza con quella del generatore, che riescano a formare la camera da vuoto un circuito risonante alla frequenza di alimentazione (aumentando di conseguenza la tensione efficace del segnale alternato applicato).
== Quadro dei plasmi nella tecnologia ==
*''plasma a glow discharge'':Forse i più comuni plasmi sono quelli delle [[w:Lampada_fluorescente|lampade a fluorescenza]]. Sono plasmi non termici generati dalla applicazione di campo elettrico o in corrente continua o a bassa frequenza alternata (inferiore ai 100kHz) a due elettrodi posti a distanza opportuna.
*''dc- sputtering'': Sono plasmi generati tra eleettrodi conduttori con un processo del tutto simile a quello dei plasmi a glow discharge, ma in questo caso le densità di correnti sono molto più elevate in quanto lo scopo è di erodere il materiale dell'elettrodo negativo, per asportarlo.
*''rf-sputtering'': Sono sempre dei plasmi capacitivi, ma la frequenza del campo elettrico alternato tra gli elettrodi è in genere, radio frequenza (tipicamente 13.56 MHz). Come per il dc-sputtering qui l'enfasi è posta sulla erosione delll'elettrodo isolato che portandosi ad un potenziale negativo viene chiamato catodo.
*''Plasmi accoppiati induttivamente'': In questo caso si ha una bobina esterna alla camera dove si vuole produrre il plasma alimentata a rf, che produce il plasma mediante il fenomeno della [[w:Induzione_elettromagnetica|induzione elettromagnetica]].
*'' Plasmi riscaldati da onde'': la frequenza che genera il plasma è una onda elettromagnetica che viaggiando nel mezzo mediante fenomeni elettrostatici ed elettromagnetici genera il plasma.
Tra le tecniche usate, in genere per produrre plasmi di alta densità vi è la risonanza di ciclotrone sia elettronica che ionica, per la propagazione dell'onda è necessario l'intervento di un campo magnetico coassiale.
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Il plasma]
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