Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Sputtering: differenze tra le versioni
Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
m Bot: apostrofo dopo l'articolo indeterminativo |
- immagine cancellata |
||
Riga 53:
Il risultato è un aumento della velocità di deposizione rispetto al sistema a diodo planare.
===Sputtering a radiofrequenza===
|