Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a raggi X: differenze tra le versioni

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Pietrodn (discussione | contributi)
m perché
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Per fare le maschere vi è la necessità di una combinazione di materiali opachi (elementi pesanti) e trasparenti ai raggi-x. Tali maschere vengono fatte attraverso EBL.
Comunque la diffrazione non è un problema perchèperché le lunghezze d' onda sono molto piccole, però, ci sono effetti d' ombra problematici. Inoltre la polvere non crea problemi alle maschere in quanto è trasparente ai raggi-x (cioè i raggi-x non la vedono).
 
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Litografia a raggi X]]{{Avanzamento|25%|30 maggio 2009}}