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Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia elettronica: shadow mask, tilted evaporation: differenze tra le versioni

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* Litografia elettronica a proiezione utilizzando una maschera (EPL): Si fanno fasci più grandi e si va a stringere il fascio con delle maschere adatte. Questa è una tecnica molto complicata che potrebbe riguardare il futuro della litografia. Comunque gli stepper che proiettano ancora non esistono e le maschere sono complicate da realizzare.
 
==Schema della litografia elettronica==
 
[[File:Litografia elettronica.jpg]]
 
Il principale problema della litografia elettronica risulta essere quello dello ''Back-Scattering'' ossia gli elettroni, quando colpiscono il resist, scatterano da tutte le parti e non vengono illuminate solo parti che andrebbero illuminate, ma delle zone più ampie. Di seguito si illustra il fenomeno dello Back-Scattering:
 
[[File:Back-Scattering.jpg||400px]]
 
InoltreUn c'altro èproblema riguarda anche le macchine per realizzare il fattovuoto. cheInfatti si deve operare in alto vuoto e le macchine che realizzanolo questi vuoti elevatirealizzano, sono molto costose.
 
==Vantaggi e svantaggi==
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