Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche/Litografia a fascio ionico: differenze tra le versioni
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La '''litografia a fascio ionico''' è simile alla litografia elettronica, ma utilizza ioni invece che elettroni. Un grande vantaggio presentato dalla tecnica IPL (''ions photolitography'') rispetto alla litografia a fascio di elettroni, è dovuto al fatto che gli ioni presentano massa maggiore rispetto agli elettroni, questo consente di evitare fenomeni di scattering e quindi di ottenere una migliore risoluzione; gli ioni, inoltre, non subiscono diffrazione ed il ''resist'' risulta più sensibile agli ioni che agli elettroni (gli ioni presentano una maggiore energia rispetto agli elettroni), di conseguenza, la IPL è una tecnica più veloce rispetto alla litografia elettronica.
La IPL, tuttavia, presenta anche alcuni svantaggi:
I motivi sopra elencati portano a scartare la IPL per i processi di produzione su larga scala, questa tecnica però, trova la sua applicazione nella riparazione delle maschere per la litografia ottica o a raggi-X.▼
▲- le sorgenti di ioni non sono facilmente reperibili. Di solito si ricorre al gallio che viene fatto evaporare ed, in seguito, ionizzato
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Litografia a fascio ionico]]
▲- risulta difficile ottenere delle buone lenti magnetiche per gli ioni
{{Avanzamento|0%|3 giugno 2009}}
▲- le maschere da utilizzare per la IPL sono molto complesse e quindi di difficile realizzazione
▲- è una tecnica molto lenta rispetto alla litografia ottica
▲I motivi sopra elencati portano a scartare la IPL per i processi di produzione su larga scala, questa tecnica però, trova la sua applicazione nella riparazione delle maschere per la litografia ottica o a raggi-X.
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