Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Ion milling: differenze tra le versioni
Contenuto cancellato Contenuto aggiunto
Nuova pagina: La tecnica dello '''Ion milling''' si avvale delle seguenti caratteristiche : *Scarica in plasma fra anodo e catodo *Il campione da etchare è posto su un terzo elettrodo, disaccoppia… |
m cambio avanzamento a 0% |
||
Riga 1:
{{Micro e nanotecnologia}}
La tecnica dello '''
*Scarica in plasma fra anodo e catodo
Line 6 ⟶ 7:
*Un filamento produce elettroni, ionizza l'Ar, gli ioni vengono accelerati e sbattono sul campione (con energia dai 30 eV ai 10 keV)
*Utile per materiali refrattari, poco selettivo, altamente direzionale
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Ion milling]]
{{Avanzamento|0%|4 aprile 2009}}
| |||