Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Reactive Ion Etching (RIE): differenze tra le versioni
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*Sensibilità al danneggiamento elettrico dei layer da etchare o degli stopping layer
*Utilizzando fenomeni di deposizione e assorbimento si può aumentare il controllo dell'etch orizzontale nel Ion Enhanced Etch
== Licenza d'uso ==
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