Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili: differenze tra le versioni
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Esistono due metodologie generali di deposizione di film sottili: la deposizione fisica da fase vapore (''Physical vapor deposition'': PVD) e la deposizione chimica da fase vapore (''Chemical Vapor Deposition'': CVD).
=== Elettromigrazione===
=== Metallizzazione ===
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* Aumento delle capacità viste dalla linea;
* Aumento della densità di corrente nella linea;
=== Elettroplating ===
E' ben noto tra due fili metallici, posti ad una certa distanza, avvengono fenomeni capacitivi più o meno intensi a seconda del dieletrico che viene interposto tra i 2.
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