Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili: differenze tra le versioni
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Esistono due metodologie generali di deposizione di film sottili: la deposizione fisica da fase vapore (''Physical vapor deposition'': PVD) e la deposizione chimica da fase vapore (''Chemical Vapor Deposition'': CVD).
=== Metallizzazione ===
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Film sottili]]
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