Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche litografiche: differenze tra le versioni

 

 

 

E' una tecnica utile al tracciamento del circuito da realizzare sul wafer, è consiste nel trasferire il disegno circuitale presente in una maschera ad un materiale fotosensibile (photoresist) da utilizzare succesivamnteper i vari processi di etch o di impiantazione.

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DISTANZA DI FUOCO'''

Oltre alla risoluzione, un aspetto da tenere in considerazione è la profondita di fuoco, ovvero la distanza entro il quale l'immagine si mantiene a fuoco.

 

 

 

Sono di due tipi: lampada o laser.

Quelle a lampada sono denominate I-line è spesso usano lampade al mercurio ottenendo valori di