Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici: differenze tra le versioni
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==Fornaci per deposizione di film a bassa pressione==
I processi di deposizione di film sottili vengono effettualti a Diffusione in macchinari molto simili a quelli utilizzati per i processi di ossidazione.
;''Fornace a pareti riscaldate'' (LPCVD)
:C' è un tubo di quarzo riscaldato da un forno a 3 zone. Il gas viene introdotto da una estremità e poi viene pompato all' uscita. Le fette sono poste su di una navicella di quarzo mentre la pressione è controllata da sensori capacitivi.
[[File:Forno a pareti riscaldate.jpg|850px]]
;''Reattore per deposizione chimica assistita da plasma'' (PECVD)
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==Polisilicio e drogaggio==
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