Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Ossidazione: differenze tra le versioni

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:* Bassa densità
:* Peggiore struttura stechiometrica
 
==Deposizione di ossidi con tecnica CVD==
 
Gli ossidi che vengono deposti mediante tecnica CVD sono, sostanzialmente, di tre tipi:
 
- BPSG (ossido drogato con boro e fosforo)
 
- ILD (ossido intermetallico)
 
- HDP (ossido deposto in alta densità di plasma)
 
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Ossidazione]]