Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Ossidazione: differenze tra le versioni
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:* Bassa densità
:* Peggiore struttura stechiometrica
==Deposizione di ossidi con tecnica CVD==
Gli ossidi che vengono deposti mediante tecnica CVD sono, sostanzialmente, di tre tipi:
- BPSG (ossido drogato con boro e fosforo)
- ILD (ossido intermetallico)
- HDP (ossido deposto in alta densità di plasma)
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Ossidazione]]
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