Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Ossidazione: differenze tra le versioni

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Inoltre nell' estremità del tubo dove vengono inserite le fette, si mantiene un flusso di aria filtrata così si riduce la quantità di particelle presenti nell' aria in modo da minimizzare le contaminazioni delle fette.
 
[[File:fornaci.jpg|left|700px]]
 
==Spessore dell' Ossidoossido==
 
Sappiamo che gli ossidi cresciuti in ossigeno hanno le proprietà elettriche migliori ma crescere un certo spessore di ossido ad una data temperatura in ossigeno richiede un tempo superiore di quanto non sia necessario in vapor acqueo.
 
Quindi per una data temperatura e un dato tempo, il film di ossido ottenuto per via umida è più spesso di quello ottenuto per via secca.
 
''';Caratteristiche dell'ossido Ossido ''Dry'''dry''
-:* Bassa velocità di accrescimento
 
-:* Alta densità
- Bassa velocità di accrescimento
-:* Buona struttura stechiometrica
 
''';Caratteristiche dell'ossido Ossido ''Wet'''wet''
- Alta densità
-:* Alta velocità di accrescimento
 
-:* Bassa densità
- Buona struttura stechiometrica
-:* Peggiore struttura stechiometrica
 
'''Caratteristiche dell' Ossido ''Wet'''''
 
- Alta velocità di accrescimento
 
- Bassa densità
 
- Peggiore struttura stechiometrica
 
[[Categoria:Micro e nanotecnologia|Ossidazione]]