Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici: differenze tra le versioni
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Quando il polisilicio è depositato a temperature comprese tra i 600-650°C, si ottiene una struttura a colonna, che comprende grani
policristallini aventi dimensioni tra 0.03 e 0.3 μm con orientamento preferenziale. Quando il fosforo viene fatto diffondere a 950°C
la struttura si trasforma in cristallite e la dimensione dei grani cresce fino ad una media tra 0.5 a 1 μm. Se la temperatura arriva
a 1050°C durante l'ossidazione, i grani raggiungono una dimensione finale che può andare da 1 μm a 3 μm.
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