Cronologia della pagina
29 giu 2012
16 mag 2011
17 lug 2010
Pasquale.Carelli
nessun oggetto della modifica
m+34
Pasquale.Carelli
cambio avanzamento a 75%, tolto materiale da sistemare altrove
−6 045
18 dic 2009
18 mag 2009
16 mag 2009
12 mag 2009
9 mag 2009
28 mar 2009
27 mar 2009
21 mar 2009
18 mar 2009
Angelochimisso
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+195
Angelochimisso
nessun oggetto della modifica
+2 032
Marco de meis
→Tecniche di CVD
+192
Marco de meis
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+71
17 mar 2009
Ramac
fix
m−8
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+488
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+712
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+340
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+152
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+176
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+540
Marco de meis
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+262
Marco de meis
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+853
Marco de meis
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+23
Marco de meis
→Deposizione di CVD Tungsteno (W)
+497
Marco de meis
→Struttura del film epitassiale
+270
11 mar 2009
10 mar 2009
Ilaria Lucresi
nessun oggetto della modifica
+252
Ramac
cambio avanzamento a 50%
m+65
Marco de meis
nessun oggetto della modifica
+911
Marco de meis
Nuova pagina: La CVD (deposizione chimica in fase vapore) è una tecnica di crescita epitassiale. Per creare lo strato epitassiale, si fanno reagire chimicamente allo stato gassoso alcune sostanze …
+630