Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD): cronologia delle modifiche

Confronto tra versioni: selezionare le caselle corrispondenti alle versioni desiderate e premere Invio o il pulsante in basso.

Legenda: (corr) = differenze con la versione corrente, (prec) = differenze con la versione precedente, m = modifica minore

corrprec 18:5118:51, 17 lug 2010‎ Pasquale.Carelli discussione contributi‎ m 6 455 byte +34‎ Nessun oggetto della modifica annulla
corrprec 18:4918:49, 17 lug 2010‎ Pasquale.Carelli discussione contributi‎ 6 421 byte −6 045‎ cambio avanzamento a 75%, tolto materiale da sistemare altrove annulla

corrprec 19:3419:34, 18 mag 2009‎ Antonio84 discussione contributi‎ 12 463 byte +1 282‎ Nessun oggetto della modifica annulla

corrprec 01:1201:12, 16 mag 2009‎ FrescoBot discussione contributi‎ m 11 181 byte −2‎ Bot: apostrofo dopo l'articolo indeterminativo annulla

corrprec 13:1313:13, 9 mag 2009‎ Antonio84 discussione contributi‎ m 11 186 byte +25‎ Nessun oggetto della modifica annulla
corrprec 12:2512:25, 9 mag 2009‎ Antonio84 discussione contributi‎ m 11 161 byte −2‎ Nessun oggetto della modifica annulla

corrprec 01:5301:53, 21 mar 2009‎ AndreaL discussione contributi‎ 11 181 byte +1 265‎ Nessun oggetto della modifica annulla

corrprec 21:2621:26, 10 mar 2009‎ Ilaria Lucresi discussione contributi‎ 1 858 byte +252‎ Nessun oggetto della modifica annulla
corrprec 19:3819:38, 10 mar 2009‎ Ramac discussione contributi‎ m 1 606 byte +65‎ cambio avanzamento a 50% annulla
corrprec 18:0218:02, 10 mar 2009‎ Marco de meis discussione contributi‎ 1 541 byte +911‎ Nessun oggetto della modifica annulla
corrprec 14:5614:56, 10 mar 2009‎ Marco de meis discussione contributi‎ 630 byte +630‎ Nuova pagina: La CVD (deposizione chimica in fase vapore) è una tecnica di crescita epitassiale. Per creare lo strato epitassiale, si fanno reagire chimicamente allo stato gassoso alcune sostanze …