Cronologia della pagina
3 giu 2022
1 giu 2021
9 mag 2020
31 mag 2018
27 ago 2017
2 ott 2016
94.34.211.166
→Principali trattamenti chimici
+10
94.34.211.166
→Principali trattamenti chimici
+1
94.34.216.112
→Processo Czochralski
+1
94.34.216.112
nessun oggetto della modifica
1 ott 2016
62.18.244.59
→Wafer: Errore
+2
62.18.244.59
→Crescita del monocristallo: Errore
62.18.244.59
→Principali trattamenti chimici: Errore di battitura
+1
3 mar 2013
9 gen 2013
26 giu 2011
3 gen 2011
1 lug 2010
29 giu 2010
18 dic 2009
FrescoBot
Bot: simboli errati di alcune unità di misura
m+1
FrescoBot
Bot: spazio prima del simbolo °C
m+1
22 set 2009
21 set 2009
LucaDl
nessun oggetto della modifica
+470
LucaDl
→Realizzazione del wafer monocristallino di silicio
+2