Discussione:Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili

Ho preso

Caratteristiche della deposizione PVD

Vantaggi

• Velocità di deposizione
• Ottima qualità dei materiali deposti. Film con assenza di contaminati che invece sono presenti nei film CVD
• Uniformità della deposizione
• Costi contenuti

Svantaggi

• Impossibilità di depositare materiali polimerici con qualche eccezione
• Alto grado di sofisticazione dell'apparecchiatura e, perciò, alto costo iniziale
• Tecnologia che richiede una preparazione adeguata del personale

da una voce che intendo cancellare: Micro_e_nanotecnologia/Microtecnologia/Film_sottili/Physical_Vapor_Deposition_(PVD)

(corr | prec) 18:50, 19 mar 2009‎ Franztheboss87 (Discussione | contributi)‎ (3 190 byte) (annulla) (corr | prec) 18:43, 19 mar 2009‎ Franztheboss87 (Discussione | contributi)‎ (2 793 byte) (annulla)